Характеристики

Рабочая температура ≤800 ℃. Может использоваться как высокотемпературное покрытие при 800 ℃ или как высокотемпературное антиокислительное покрытие при 800 ℃.

заявка

Используется в процессе плазменного напыления в качестве подложки фильтра для оксида циркония.