Каковы материальные требования к испарению источника в вакуумном покрытии?

Как правило, материал и форма источника испарения должны быть рассмотрены. Общие требованияИспарительный исходный материалявляются:

Высокая температура плавления

Поскольку температура испарения испаряющегося материала (температура давления пара равновесия 1,3PA) в основном от 1000 ~ 2000 ℃, следовательно, температура плавления испаряющегося исходного материала должна быть выше, чем эта температура.

Баланс давления пара

Основная цель состоит в том, чтобы предотвратить или уменьшить испарительный материал испарения при высокотемпературных испарительных материалах и становятся примесями в слой испарения покрытия. Только в исходных материалах исходных материалов, когда баланс давления воздуха достаточно низкий, чтобы обеспечить наименьшее самостоятельное испарение во время испарения, не влияет на систему вакуумной и загрязненной мембранный слой, чтобы сделать количество исходных материалов испарения, испарением. Температура, испарительный источник материала Выбор, должен сделать материал температуры испарения ниже, чем исходные материалы испарения, давление баланса 1,3 x 10-6 Pa, температура, соответствующая 1,3 × 10-3Па, может использоваться для приготовления высокого качества Фильмы.

Стабильные химические свойства

Химическая реакция с испаряющим материалом не должна происходить при высокой температуре. При высокой температуре некоторые испаряющиеся исходные материалы реагируют и диффундируют с испаряющимися материалами для формирования соединений и сплавов. Особенно источник испарения с сплавом с низким эвтектическим сплавом легко сгореть. Например, тантал и золото будут образуют сплавы при высокой температуре, а алюминиевый, железо, никель, кобальт также образуют сплавы вольфрама, молибден, танталом и другими испарительными материалами. Вольфрам также может реагировать с водой или кислородом с образованием летучих оксидов, таких как WO, WO2 или WO3. Молибден также может реагировать с водой или кислородом для формирования летучих Moo3 и т. Д. Следовательно, следует выбирать материал, который не будет реагировать с материалом покрытия или формировать сплав, чтобы сделать испарительный материал испарения материала материала.

Материалы, используемые в качестве источников испарения, должны иметь высокую температуру плавления, низкую волатилизацию и низкую хрупкость после высокотемпературного охлаждения. Обычно используемый линейный испарительный источник должен быть смотрен с фазой металлической фазы испарения, точка плавления гораздо больше, чем температура испарения позолоченного, и не реагирует с позолоченным сплавом.